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CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉積設(shè)備
緊湊型側(cè)式真空氣相沉積設(shè)備

LPMS CVD05

緊湊型側(cè)式真空氣相沉積設(shè)備

  • 直徑0.5米不銹鋼真空反應(yīng)罐,堅(jiān)固耐用,鍍膜速度快。

  • 機(jī)臺(tái)一體式設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,占地小。

  • 真空管路采用不銹鋼連節(jié),方便維護(hù)及保養(yǎng)。

  • 側(cè)開式門設(shè)計(jì)便于取放產(chǎn)品與腔體清潔等維護(hù)作業(yè)。

  • 反應(yīng)罐內(nèi)置轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)使產(chǎn)品在鍍膜過程中勻速旋轉(zhuǎn),鍍層更均勻。

  • 使用數(shù)位LED真空計(jì)顯示工作狀況時(shí)的真空度。

  • 操作簡易,可依實(shí)際需求變換自動(dòng) /手動(dòng)操作模式。

  • 紅外線加熱圈,加溫速度快。

  • 采用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。

  • 定時(shí)加熱、超溫報(bào)警和自動(dòng)停止加熱等保護(hù)功能

  • 自診功能和各種故障報(bào)警。

  • 選配遠(yuǎn)程控制和手機(jī)APP功能。



標(biāo)簽:   派瑞林Parylene

運(yùn)用范圍

 真空氣相沉積設(shè)備是一種用于電子產(chǎn)品防水保護(hù)的鍍膜設(shè)備。工作時(shí)把含有構(gòu)成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質(zhì)氣體經(jīng)過升華、熱解后進(jìn)入放置產(chǎn)品的真空反應(yīng)室,借助空間氣相化學(xué)反應(yīng), 在產(chǎn)品表面上沉積生成0.1-100um厚度均勻,無應(yīng)力、優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性、防潮、防霉、防腐、防鹽霧薄膜涂層。

廣泛應(yīng)用于:航空、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領(lǐng)域產(chǎn)品的防水封裝與保護(hù)工藝中。

  



產(chǎn)品規(guī)格

設(shè)備總尺寸 ( 寬度 , 深度 , 高度 )

1170 mm x 1860 mm x 1970mm

反應(yīng)罐體內(nèi)尺寸

?500 mm x 600 mm

反應(yīng)罐罐口尺寸

454 mm x 600 mm

輸入電壓

三相380 VAC / 50 Hz

設(shè)備最大功率

15 Kw

溫控分區(qū)

6

分解爐溫控范圍

室溫至700℃

升華爐溫控范圍

室溫到150℃

原料門溫控范圍

室溫到250℃

制冷壓縮機(jī)功率

1000 W

制冷量

887 W

最低制冷溫度

-90℃

真空泵型號(hào)

2RH 030C

真空泵抽氣速率

30 m3

最大真空壓力

5 Pa

真空泵電機(jī)功率

1.1 KW (三相380VAC)

真空泵電機(jī)轉(zhuǎn)速

1420 R/Min

控制系統(tǒng)

10 ”人機(jī)界面,PLC 控制

遠(yuǎn)程控制和APP

選配



標(biāo)簽:   派瑞林Parylene